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中国、先端DUV半導体製造装置を約343台保有と報告書
新設のシンクタンクが、中国の工場にある液浸リソグラフィ装置の台数を集計し、全面的な輸出禁止を求めています。
Center for Technology and Statecraftが2026年9月下旬に公表し、South China Morning Postが取り上げた、Nicholas BrownとSaif M. Khanの報告書によると、中国資本の半導体工場が保有する液浸DUV（深紫外線）露光装置は、2026年第1四半期までに約343台でした。うち約270台がASMLのNXT:1980iで、残りは22台のNXT:2050i、6台のNXT:2100i、約45台の旧型機です。
NXT:1980iがAIで重要なのは、7nmロジック（HuaweiのAscendプロセッサなど）と、そのチップが使うHBM2eメモリを製造できるためです。報告書の著者らは、中国の工場にある装置1台で、Ascend 910C級のチップを年間100,000個超つくれると試算しています。液浸DUV装置の約99%をASMLが、残りをNikonが製造しており、報告書は、AIチップの生産を拡大できる規模で中国が液浸DUV装置を国産化するのは、2030年代半ば以降になるとみています。
著者らは、中国向けの液浸DUV販売をすべて停止し、スペアパーツと保守サービスも制限するよう求めています。ChainCatcherによるSCMP記事の要約によると、同シンクタンクは2026年8月に設立されました。ASMLの売上に占める中国の比率は、2024年の41%から2026年第2四半期には14%に低下しています。
AIコンピュートを調達する側にとって、この台数は、中国のAIチップ生産のどれほどが導入済みの装置に支えられているかを示しています。報告書が新規販売だけでなく、保守やスペアパーツも標的にしているのは、そのためです。
出典
- Center for Technology and Statecraft：DUV Immersion Lithography: The Foundation of the US AI Advantage。確認日：
- ChainCatcher：Analysis: China may have stockpiled 343 immersion deep ultraviolet lithography machines。確認日：
